吡喹酮混懸液研磨分散機運行原理： 混懸液研磨分散機在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入混懸液破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。

SGN頭孢噻肟鈉研磨分散機，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，剪切力強，是國內(nèi)設備的4-5倍。研磨分散機是膠體磨和分散機的一體化設備，磨頭結構、分散盤的結構，也更適合細胞破碎、細胞破壁。采用博格曼雙端面機械密封，并配有機封冷卻系統(tǒng)，可供工業(yè)化生產(chǎn)24小時運行。分體式結構，通過皮帶提速，可根據(jù)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速，滿足不同細胞破碎要求，合適的轉(zhuǎn)速，合理的剪切力不易導致產(chǎn)品變性失活。

GMD2000系列頭孢克洛混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑微米級0.2-2μm，可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。德國進口分散乳化機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

中成藥管線式研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設備，是一項新的技術革新。研磨分散機是將膠體磨（錐體磨）+高剪切分散機一體化的設備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進行分散，避免了物料的二次團聚。 膠體磨和分散機的一體化設計相對于膠體磨和分散機的串聯(lián)而言更具優(yōu)勢。串聯(lián)的話存在時間差，當物料通過膠體磨之后，磨細后物料會出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象，再經(jīng)過分散機分散，效果不是很好。而GMD研磨分散機的話，物料磨細后

【SGN轉(zhuǎn)移因子研磨分散機的簡介】 高剪切研磨分散機轉(zhuǎn)移因子膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改

高剪切除草劑研磨分散機的一般生產(chǎn)工藝 通常是由液相構成，其中懸浮著活性劑。配方中還包括一些添加劑，如濕化劑、懸浮劑、消泡劑等。粉體和液體混合之后，再進一步研磨，以達到要求的細度（通常為5 um以下，用于噴涂），產(chǎn)品也有可能直接送入噴霧干燥機。

SGNGMD2000系列農(nóng)藥水乳劑研磨分散機特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，GMD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GMD2000整機采用幾何機構的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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